Инфраструктура E-lab

Фильтр K&F Concept Nano-X 82mm MCUV Protection Filter

  • Марка/модель

    K&F Concept Nano-X 82mm MCUV Protection Filter

  • Год выпуска

    2025

  • Количество

    1

  • Страна-производитель

    Китай

  • Виды работ

    Можно выполнять широкий спектр профессиональных работ, связанных с съёмкой, документированием и визуальным анализом объектов. В целом оно позволяет проводить студийную и выездную фотосъёмку, макро- и предметную съёмку, портретную и художественную фотографию, научную фиксацию объектов, а также репортажную и событийную съёмку.

  • Основные технические характеристики

    MCUV-фильтр 82 мм с 28-слойным Nano-X покрытием, светопропусканием 98,9%+, ультратонкой оправой 3,3 мм и защитой объектива от механических повреждений и УФ-излучения.

  • Область применения

    Комплектующее к объективу Canon RF 85 mm

  • Инструкция по эксплуатации

    Имеется

  • Телефон

    +77059868116

  • Email

    smagulovt@mail.ru

Подать заявку
Для запроса на использование объекта, заполните форму заявки, нажав на кнопку "Подача заявки".Представители организации, разместившие этот объект, свяжутся с вами для уточнения деталей.
Если не получили ответ, пожалуйста, обратитесь по указанным контактам.

Другие объекты