E-lab infrastructure

Фильтр K&F Concept Nano-X 82mm MCUV Protection Filter

  • Mark/Model

    K&F Concept Nano-X 82mm MCUV Protection Filter

  • Year of release

    2025

  • Quantity

    1

  • Country of origin

    China

  • Types of work

    Можно выполнять широкий спектр профессиональных работ, связанных с съёмкой, документированием и визуальным анализом объектов. В целом оно позволяет проводить студийную и выездную фотосъёмку, макро- и предметную съёмку, портретную и художественную фотографию, научную фиксацию объектов, а также репортажную и событийную съёмку.

  • Main technical characteristics

    MCUV-фильтр 82 мм с 28-слойным Nano-X покрытием, светопропусканием 98,9%+, ультратонкой оправой 3,3 мм и защитой объектива от механических повреждений и УФ-излучения.

  • Scope of application

    Комплектующее к объективу Canon RF 85 mm

  • Operating instructions

    Имеется

  • Phone number

    +77059868116

  • Email

    smagulovt@mail.ru

Submit an application
To request the use of the facility, fill out the application form by clicking on the "Submit application" button. Representatives of the organization that placed this object will contact you to clarify the details. If you have not received a response, please contact the specified contacts.

Other facilities