CY-O1200-50IIT-3Z-HV

2024

1

Қытай

Проведение процессов химического осаждения из газовой фазы (CVD), синтез наноматериалов и тонких пленок, получение функциональных и защитных покрытий, выращивание графена, углеродных нанотрубок и других наноструктурированных материалов. Исследование свойств новых материалов, разработка технологий получения покрытий и нанокомпозитов, подготовка образцов для материаловедческих исследований, а также выполнение научно-исследовательских и опытно-конструкторских работ в области нанотехнологий и материаловедения.

Высоковакуумная CVD-система CY-O1200-50IIT-3Z-HV предназначена для синтеза наноматериалов, тонких пленок и функциональных покрытий методом химического осаждения из газовой фазы (CVD). Оснащена трехзонной трубчатой печью с максимальной температурой нагрева до 1200 °C, обеспечивающей независимое управление температурными зонами. Система работает в условиях высокого вакуума, имеет цифровой контроль температуры с высокой точностью, вакуумную систему откачки, систему подачи и регулирования газов, а также программируемое управление технологическими процессами. Позволяет проводить процессы осаждения покрытий, синтеза углеродных наноматериалов, графена, нанотрубок и других перспективных материалов для научных исследований и разработки новых технологий.

Высоковакуумная CVD-система CY-O1200-50IIT-3Z-HV применяется для синтеза и исследования наноматериалов, тонких пленок и функциональных покрытий. Используется в области материаловедения, нанотехнологий, энергетики, электроники, микро- и наноэлектроники, разработки новых композиционных материалов, а также при проведении научно-исследовательских и опытно-конструкторских работ по созданию перспективных материалов с заданными физическими, химическими и механическими свойствами.

есть